린데가 SK 하이닉스와 불소(F₂) 온사이트 장기 공급계약을 체결했다고 지난 11일 밝혔다. 이를 통해 그동안 세정가스로 많이 쓰이던 NF₃(삼불화질소)를 F₂가 대체해 나갈지 귀추가 주목되고 있다.

SK 하이닉스는 DRAM과 NAND 플래시 메모리 생산공정에서 세정가스로 F₂, NF₃를 사용하고 있다. SK 하이닉스가 이번에 배관을 통한 온사이트로 F₂공급 계약을 체결한 것은 온실가스 규제와 생산효율 향상 및 비용절감 효과 때문이다.

NF₃는 CO₂ 보다 온실가스 지수(GWP) 가 1만7,200배나 높은 가스로 국제적으로 규제하려는 움직임이 진행 중이다. 반면 F₂는 온실가스 지수 (GWP) 가 ‘0’ 인 친환경 가스이며 현재까지 알려진 세정 효율이 가장 좋은 가스 중 하나다.

지난 5월16일 미국에서 열린 반도체와 관련한 컨퍼런스인 ASMC 2012 (Advanced Semiconductor Manufacturing Conference)에서 SK 하이닉스는 F₂사용으로 일부 공정에서 세정시간을 약 40% 감축하고 가스 사용량을 약 35% 절감했다는 초기 결과를 발표하기도 했다.

이에 SK 하이닉스는 NF₃를 F₂로 적극 전환하고 여러 가지 공정으로 F₂를 확대 적용하고 있다.

린데는 이번 온사이트 F₂ 확대로 관련 기술이 반도체, TFT-LCD(박판 트랜지스터 액정 표시 장치) 및 태양전지 산업 등에서 세정가스의 표준으로 빠르게 자리잡아갈 것으로 기대하고 있다.

SK 하이닉스 ESH R&D센터의 오창현 책임은 “SK 하이닉스가 린데의 온사이트 F₂기술을 사용하고 있는 것은 린데가 전자산업 분야의 온사이트 F₂기술을 리드하고 있기 때문”이라며 “또한 SK 하이닉스가 달성하고자 하는 환경보호, 안전하고 안정적인 가스 공급, 공정 개선과 비용절감을 위한 것”이라고 밝혔다.

린데 불소가스사업 총괄책임자인 칼 잭슨 (Carl Jackson)은 “린데가 SK 하이닉스와 장기간의 계약을 성공적으로 체결한 데 대해 매우 자랑스럽게 생각한다”며, “앞으로도 공조를 통해 SK 하이닉스의 생산 과정에서 비용 절감과 친환경적인 요소를 더욱 개선시키길 기대한다”고 말했다.

한편 린데는 2004년부터 한국뿐 아니라 중국의 SK 하이닉스 공장에 온사이트로 F₂가스를 생산·공급하고 있다.