▲ 석경에이티가 일본 도쿄에서 열린 ‘나노텍(Nanotech) 2024’에 참가했다.

석경에이티(대표 임형섭)가 글로벌 무대서 회사의 고도화된 중공실리카 기술을 선보여 제품 적용 범위 논의를 활발하게 진행했다.

석경에이티(대표 임형섭)와 현지 법인 에스지재팬(SG JAPAN Co., Ltd.)은 일본 도쿄에서 열린 ‘나노텍(Nanotech) 2024’에 참가했다고 6일 밝혔다.

지난달 31일부터 사흘간 열린 나노텍에는 글로벌 기업 600개, 연인원 4만명 이상이 참가한 가운데 나노 업계의 글로벌 최신 기술과 소재가 공개됐다.

석경에이티는 임형섭 대표이사를 중심으로 연구소 및 해외 마케팅 임직원이 참여해 신규 고객 확보, 기업 및 핵심 제품의 인지도 향상을 도모했다.

회사는 이 자리에서 구형(Spherical) SiO2, 중공실리카(Hollow Silica) 등 주요 품목에 집중해 3일 동안 총 173곳의 방문 업체와 현장 미팅을 진행하는 성과를 거뒀다.

에스지재팬은 일본 현지화 및 네트워크 구축 강화를 위해 올해 처음으로 별도 부스를 확보하고 마케팅 활동에 나서기도 했다.

중공실리카는 5G·6G 초고속통신 기판소재용 저유전율, 저유전손실 계수로 주목받은 이후 다양한 산업에서 협업을 추진하고 있다.

국내외 파트너와 저굴절 디스플레이 코팅용 소재 및 스마트폰 단말기용 PCB에 적용하기 위한 테스트 외에도 글로벌 화학 기업을 통한 제품 마케팅 및 기술지원이 활발히 이뤄지는 등 중공실리카의 적용 산업 분야가 넓은 만큼 향후 상용화에 대한 기대감도 커지고 있다.

석경에이티는 올해를 양적 성장 원년으로 보고 있다. 건축 관련 인허가 및 환경영향평가 등의 절차를 마친 후 올해 4월 안으로 전라북도 김제자유무역지역에 제3공장을 착공할 계획이다.

제3공장은 소재별 고유의 특성 유지 및 안정을 위해 자동화 시스템을 도입한다. 특허경영 강화를 위해서도 지난해 붕화물계 전고체전해질 소재 개발 완료 후 출원한 특허 6종 외에도 다수의 특허 출원을 준비하고 있으며, 해외특허출원(PCT)을 통해 글로벌 진입장벽을 높이고자 계획하고 있다.

임형섭 석경에이티 대표는 “올해 나노텍 전시회는 한국관과 일본관에서 각각 별도의 부스를 운영한 결과 우리의 고도화된 소재 기술에 대해 지난해보다 높은 관심과 질의가 있었다”면서, “특히 20년 이상 축적해 온 나노 분야의 연구로 확보한 중공실리카 기술은 현재 대량생산이 가능한 수준까지 개발돼 앞으로 회사의 신성장동력으로 자리매김할 것”이라고 말했다.