▲ 반도체 공정에 쓰이는 웨이퍼

선도적인 과학기술기업인 한국머크(대표이사 김우규 박사)가 반도체 제조 공정 중 하나인 포토리소그래피 과정에 쓰이는 보완된 친환경 용매 제품을 발표해 지속가능 기술혁신에 다가섰다.

반도체 산업의 수요 증가에 따라 웨이퍼 세정 용제와 관련 장비 또한 발전 또는 성장을 이루는 가운데 머크의 AZ® 910 리무버(AZ® 910 Remover)는 보다 비용 효율적인 방식으로 새롭게 배합된 제품이다.

인체에 유해한 NMP를 사용하지 않으면서도 패터닝된 포토레지스트를 빠르게 용해할 수 있도록 설계가 되었다. 우수한 환경 영향성, 다양한 장비에서 손쉬운 이용가능성, 뛰어난 레지스트 용해력을 갖춘 이 포트폴리오는 반도체 습식화학 시장에서 큰 영향을 끼치고 있다.

이 솔루션은 포토레지스트의 전체 부피의 3배 미만의 용액으로도 충분히 포토레지스트를 제거할 수 있다. 고객사의 비용을 절감하는 동시에 전 세계에서 이 소재가 폐수로 흘러 들어가며 발생되는 환경발자국을 줄여준다.

지속가능성은 머크 기업 전략의 필수 요소로 머크는 고객사에 장기적인 가치를 창출하면서도 환경 측면의 니즈를 만족시키는 제품 및 기술 개발에 전념하고 있다.

전통적으로 반도체 제조 시설은 네거티브 톤 포토레지스트를 사용하는데, 네거티브 톤 포토레지스트는 포토공정에 레지스트를 더 적합하게 만들기 위해 가교 반응(crosslinking)과 같은 화학반응을 거친다. 그러나 가교된 레지스트는 용해와 제거가 더 어려워 기업과 환경 모두에 영향을 준다. 현재 시장에 있는 기존의 배합된 세정 제품들은 용액을 덜 사용하면서도 고성능이며 지속 가능한 화학구조 등, 점점 높아지는 업계 요건을 충족시키지 못했다.

이에 AZ® 910 리무버 포트폴리오는 미세전자기계시스템(MEMS), 자동차, 전력 IC (집적 회로), 웨이퍼 단계의 패키징 디바이스 시장을 타겟으로 복잡하고 비싼 NMP 기반 화학구조를 대체할 대안적인 솔루션을 제공한다.

이 혁신제품은 네거티브 및 포지티브 톤 포토레지스트를 웨이퍼 표면에서 들어 올려 제거하는 형식의 NMP 기반 제품과 다르게, 네거티브와 포지티브 톤 포토레지스트를 모두 용해하여 제거하는 방식이다. 이를 통해 제거공정에 걸리는 시간을 반으로 줄이고, 화학구조와 필터 수명이 연장되어, 제조사가 고도화된 프로세서에 필요한 고가의 제거액에 투자를 하지 않아도 되므로 총 소유비용을 대폭 개선할 수 있다.

머크 반도체 소재 사업부 대표인 아난드 남비아 대표는 “제품이 가지는 순수한 친환경 화학구조는 각 제조시설의 환경발자국을 극적으로 개선하여, 고객이 습식화학 공정을 단순화할 수 있게 해 준다”며 “단지 1갤런의 AZ® 910 리무버만으로도 네거티브 톤 레지스트가 커버리지의 80%을 차지하는 8인치 웨이퍼 250개 이상을 세정할 수 있다. 이는 기존 솔루션으로는 따라잡기 힘든 수준의 성과”라고 덧붙였다.