▲ ▲이재종 한국기계연구원 박사가 새로 개발된 다층 나노 임프린트 장비에서 실험하고 있다.. ▲이재종 한국기계연구원 박사가 새로 개발된 다층 나노 임프린트 장비에서 실험하고 있다.

‘차세대 다층 나노 임프린트 장비’가 국내 연구진에 의해 최초로 개발돼 메모리소자 및 고효율 LED 등의 생산에 새 길이 열리게 됐다.

한국기계연구원(원장 이상천)은 나노공정장비연구실 이재종 박사팀이 여러 겹의 나노 소자를 10㎚ 미만으로 겹치게 동시 생산할 수 있는 차세대 다층 나노 임프린트 장비를 국내 최초로 개발했다고 30일 밝혔다.

이 박사팀이 교육과학기술부 21세기 프론티어 나노메카트로닉스 기술개발사업의 지원으로 새로 개발한 장비는 10㎚ 오버레이 측정시스템과 일체형 나노-마이크로 정렬 스테이지를 탑재해 정렬 정도와 공정의 정밀도를 높였다.

이번 새로운 장비 개발로 기존 20㎚급 오버레이 측정장치와 적층방식의 나노-마이크로 스테이지를 탑재한 공정보다 신속하고 정확하게 나노 소자를 대량 생산할 수 있게 됐으며 30㎚ 이하의 패터닝이 가능해졌다. 장비 가격도 기존 대비 저가여서 나노 소자의 생산 원가도 줄일 수 있게 됐다.

특히 이 박사팀이 새로 개발한 장비를 이용하면 6인치의 웨이퍼에 16㎚급 모스펫(MOSFET·반도체소자), 1 테라비트 하드 디스크 드라이브, LED, 나노광통신 소자 및 나노바이오 소자 등의 나노 구조패턴을 빠르고 정확하게 대량 생산할 수 있다.

개발된 기술은 참여기업인 ㈜새한나노텍과 14억 원의 기술이전 계약을 맺고 미국 캘리포니아대 샌디에고 캠퍼스(UCSD) 등 총 4곳에 판매됐으며, 현재 국내 기업에서 상용화를 추진 중이다.

연구책임자인 이재종 박사는 “이번에 개발한 장비는 수㎚급의 정밀도를 바탕으로 대면적 나노패터닝을 가능케 한 핵심 원천기술의 집합체로, 향후 관련 산업계에 큰 파급 효과를 기대할 수 있다”고 강조했다.

한편, 이 박사팀은 개발된 나노 임프린트 기술과 관련해 최근 5년 동안 특허등록 17건 (국외 3건), 특허출원 19건 (국외 4건), Small지 (IF=6.17)를 포함해 총 36건의 SCI논문을 발표한바 있다.