▲ EVG SmartNIL.

MEMS, 나노기술, 반도체 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 장비분야의 선도적인 공급업체인 EV그룹(EVG)은 고객 지원을 위해 ‘NILPhotonics™역량센터’를 설립했다고 4일 발표했다.

나노 임프린트를 이용한 포토닉스 구조는 발광다이오드(LED)와 광전지(PV) 셀분야의 광추출 및 광포획 성능을 향상시킬 수 있으며, 레이저 다이오드 분야에도 응용될 수 있다.

NIL Photonics 역량센터는 전담 공정팀과 초기 양산 서비스를 지원할 수 있는 최첨단 클린룸을 오스트리아의 EVG 본사 뿐만 아니라 북미와 일본에 있는 자회사에도 운영하고 있다.

EV 그룹의 마커스 뷤플링거(Markus Wimplinger) 기술개발 및 IP 이사는 “나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조시간을 대폭 단축할 수 있고, 포토닉스 구조의 모든 제품개발이 가능하다”며 “광학리소그래피용 이빔(e-beam)장치 및 스텝퍼(Stepper)시스템과 같은 종래의 기술에 비해 생산비용의 절감을 구현할 수 있다”고 말했다.

예를 들어, 종래의 리소그래피 기술과 비교해, 나노 임프린트기술을 이용해 전체 웨이퍼에 진정한 삼차원 나노범위를 갖는 서브 미크론 구조 및 20nm대의 패턴까지 구현할 수 있으며, 이는 새로운 포토닉스 응용분야의 범위를 확장할 수 있게 한다.

EV그룹은 이번 NILPhotonics 역량센터설립을 통해 고객과 제품 개발과정에 참여해 진보된 나노 임프린트시스템을 제공하고 해상도와 운용비 절감 및 고객의 제품설계, 공정프로세스를 최적화하기 위한 최선의 방법을 결정하는데 도움을 주겠다는 계획이다.

새로운 NILPhotonics 역량센터는 EVG의 15년 이상의 나노임프린트분야의 경험과, 전세계에 가장 많은 나노 임프린트장비를 설치한 기술을 바탕으로 설립됐다.

EVG의 나노 임프린트 장비군은 최근에 출시한 EVG7200 UV-NIL 시스템을 포함하며, 이는 양산에 적합한 EVG의 차세대 SmartNIL™기술을 적용한 대면적 연성 나노 임프린트제품이다.

EVG7200과 SmartNIL기술은 현존하는 경쟁사 나노 임프린트에 대비해서 월등하게 짧은 공정시간과 적은 운용비용을 장점으로 제공한다.