후성이 반도체특수가스 생산 라인의 증설을 통해 늘어나는 반도체용 특수가스 수요에 적극 대처한다.

후성은 24일 신규 시설투자에 대한 공시를 실시했다. 이에 따르면 투자 대상은 반도체특수가스 생산라인으로 투자금액은 343억원규모다. 이는 자기자본대비 25.98%에 해당하는 금액이다.

투자기간은 2015년 1월1일부터 9월30까지다.

신규 시설투자와 관련된 품목은 C4F6(육불화부타디엔)과 WF6(육불화텅스텐)인 것으로 알려졌다.

이번 증설은 반도체 미세화 공정에 따른 이들 특수가스의 수요 증대에 선제 대응하기 위한 것으로 알려졌다.

C4F6는 반도체공정용 에칭가스로 세계적으로 한국이 가장 큰 시장을 형성하고 있으며, 2개업체가 전세계 시장 과점 중인 고부가가치 제품이다. 현재 후성은 연 25톤 규모의 생산설비를 갖추고 있다.

WF6은 반도체 배선공정 증착가스로 열적 안정성이 우수하다. 이 제품 역시 세계적으로 한국이 가장 큰 시장을 형성하고 있으며 반도체 1개 라인 증설에 50∼90톤의 추가 수요가 발생하는 것으로 알려졌다. 또한 집적도 향상과 웨이퍼 크기 확대에 따른 소요량이 증가하는 것으로 전해지고 있다.

후성 관계자는 “이번 시설증설을 통해 시장 수요의 증가와 지속적인 수급 불균형 현상에 대해 적극적으로 대처하겠다”며 “자금조달은 내부유보자금과 시설 차입금으로 이뤄질 것”이라고 밝혔다.

또한 “이번 결정은 지속적인 수요증가에 따른 수급 불균형에 대한 고객사의 요청에 의해 해당사항을 결정하게 됐다”며 “앞으로의 반도체 특수가스 시장의 수요 증가세에 따라 적시적인 대응을 통해 시장 수요에 맞는 생산 및 매출을 이루고 이를 통해 사업을 확장하고자 한다”고 전했다.

한편 후성은 2013년 12월31일부로 특수가스 주요 품목인 NF3의 생산을 중단한 바 있다.