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  • 기사등록 2018-02-02 13:27:02
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▲ F₂사업을 맡고 있는 전용옥 린데코리아 부장이 친환경 고효율 F₂에 대해 소개하고 있다..

린데코리아(대표 스티븐 셰퍼드)가 올해 F₂(불소), N₂O(아산화질소) 등 반도체용 특수가스의 공급 역량 강화에 적극 나선다.

린데코리아는 1월31일부터 2월2일까지 서울 코엑스에서 개최된 세미콘코리아 2018에 참가했다.

이번 전시회에서 린데는 F₂, N₂O, HCl(염화수소), 희귀가스 등 다양한 반도체용 특수가스 역량을 소개했다.

특히 F₂와 N₂O 공급 역량 강화를 중점적으로 홍보했다.

린데 관계자에 따르면 F₂ 온사이트 제너레이터 3대를 내년 SK하이닉스 M15 청주 공장에 공급할 예정이다. F₂ 제너레이터 1기당 공급 규모는 시간당 1,600ℓ다. SK하이닉스 M15 청주 공장은 2019년 3월 가동 예정이다.

린데는 세계에서 유일하게 F₂를 100% 온사이트로 수요처에 공급할 수 있는 기업이다.

F₂는 실리콘(Si) 디퓨전 공정, TFT-LCD 챔버 세정의 기존 사용처 외에 에칭(식각)용 등으로 그 용도가 확대되고 있으며, 이미 실리콘 박막 제조공정에 대한 F₂ 적용 평가에서 사용가능성을 입증 받았다.

F₂의 장점은 안정적인 공급이 가능하며, 온난화지수가 제로(0)로 친환경적이라는데 있다. 또한 경쟁 가스인 NF₃(삼불화질소)대비 사용량을 20% 줄일 수 있다.

이러한 장점을 바탕으로 린데는 SK하이닉스의 M14 팹에 F₂ 온사이트를 확대 적용한바 있으며, 현재 도시바, JDI, ST마이크로일렉트로닉스 등에 공급하고 있다.

N₂O 공급능력도 강화된다.

린데는 국내에서 N₂O를 가장 많이 생산하는 기업으로 충남 아산 외국인 산업단지에 공장을 갖추고 있으며, 생산시설을 비롯해 충전, 정제, 저장 설비 등을 구축하고 있다.

이런 가운데 최근 2,600톤 규모의 생산라인을 완공했으며 준비 과정을 거쳐 올해 9월 제품을 본격 생산할 계획이다. 공장이 가동되면 생산캐파는 총 5,200톤으로 늘어나게 된다. 회사는 시장 상황에 따라 2,600톤 생산이 추가로 가능한 설비 구축을 완료하는 등 시장수요에 선제 대응하고 있다.

반도체·디스플레이 산업에서 N₂O는 SiO₂막을 형성하는데 사용된다. 이런 N₂O는 과거 의료용으로 안정적인 수요를 유지해 왔으나 최근 반도체, LCD 등 전자산업의 급속한 성장에 힘입어 그 수요가 점차 늘어나고 있다. 지난해에는 반도체 시장 호황에 따라 수요가 폭발하며, 공급부족 현상을 보이기도 했다.

한편 린데코리아는 100가지가 넘는 특수가스와 혼합가스를 제공하고 있다. 최첨단 생산설비와 공정 관리, 풍부한 글로벌 네트워크를 통해 고객의 고순도 및 엄격한 품질 요구를 만족시키고 있다.

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