일본 토판인쇄는 반도체용 포토마스크 제조를 담당하는 Toppan Photomasks Inc.의 생산 자회사인 상하이토판포토마스크유한공사의 건물에 최첨단 포토마스크 설비 투자를 결정하고 2018년 가을까지 도입을 완료할 것이라고 19일 밝혔다.

토판인쇄는 2018년 4월 65/55nm(나노미터) 포토마스크를, 2018년 중에 14nm 포토마스크 생산을 개시 한다는 계획이다.

세계 반도체 시장은 스마트 폰 등 정보 단말기 및 사물인너텟(IoT) 기기의 고기능화, 소형화 등으로 수요 확대가 계속되고 있으며, 규모는 2018년 약 50조엔으로 추정되고 있다.

특히 중국에서는 많은 반도체 업체들이 생산 거점의 부설을 진행하고 있으며, 첨단 포토 마스크의 왕성한 수요가 전망되는 것과 동시에, 현지 생산에 의한 안정된 공급 체제가 요구되고 있다.

1961년에 포토 마스크 사업을 시작 토판인쇄는 중국에서는 1995년에 TPCS에서 생산을 시작해 2015년에는 90nm에 대응 한 포토마스크 생산 시설을 도입. 동 시장에서 점유율을 지켜왔다.

토판인쇄는 “설비 투자를 통해 중국에서 최첨단 포토 마스크 생산을 강화하고 기존의 일본 ·대만의 생산 거점과 총력을 결집 해 아시아 시장에서 2020년에 약 450억엔의 매출을 목표로 할 것”이라 밝혔다.

이어 “앞으로도 10nm 이후의 차세대 포토 마스크 제조 외에도 7nm 세대에서의 채용이 예상됨에 따라 EUV 마스크 등 첨단 제품의 개발을 계속 세계적으로 호황 반도체 시장에서 경쟁 우위를 유지할 것”이라고 덧붙였다.